光学抛光

光学抛光方法有热流法、回蚀法、旋转玻璃法、电子环绕共振法、低压CVD、选择性沉积、沉积-蚀刻-沉积、等离子增强CVD等，这些技术已经用于材料平面化技术的开发。 由于这些技术都属于材料的局部平面化技术，为了实现全局平面化，使用抛光粉作为化学机械抛光技术逐渐开始发展。

近年来，随着航天技术、光电技术、原子能技术、激光技术等前沿技术的快速发展，对光学元件的相关性能要求越来越高。在上述高精密科技领域，光学元件应用广泛，但光学元件的表面质量要求较高。因此，光学元件的超精密加工是一个挑战。在光学元件的加工工艺中，抛光是光学元件加工过程中非常关键的一步，光学抛光可以消除光学元件的表面划痕和表面损伤，提高光学元件的表面质量。