磨料在cmp抛光液中的作用

抛光剂是cmp抛光液的主要成分。在抛光过程中，它通过微切割、微刮擦、滚压等作用于工件表面。，以实现机械去除材料的功能。

抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液、混合磨料抛光液和复合磨料抛光液

研磨剂在cmp抛光过程中的作用是：

1、机械动作的实施者，起着机械研磨的作用；

2、材料传输的功能，不仅在抛光垫和抛光材料之间传输新鲜浆料，还可以从材料表面去除反应物，漏出材料的新表面，以进一步减少反应。

因此，在选择cmp抛光液时，要记得考虑分散性好、流动性好、硬度适中且易于清洁的抛光液产品。选择可靠的制造商很重要！大家如有相关问题需要咨询可以随时联系我公司了解详情。