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研磨和抛光之间的联系是什么?它们与超精密抛光之间的联系又是什么?本期文章,跟随精密抛光粉厂家昊锐稀土,我们从两个方面来了解研磨和抛光的区别,以及它们与超精密抛光之间的关系。
研磨和抛光有两个主要区别:
1、各种加工方法
研磨是指在一定压力下,通过研磨工具和工件的相对运动,使用涂覆或压在研磨工具上的磨料颗粒对加工表面进行精加工。
抛光是指使用机械、化学或电化学作用来降低工件表面粗糙度以获得明亮均匀表面的加工过程。是用抛光工具和磨粒或其他抛光介质对工件表面进行抛光。
2、加工精度不同
研磨的主要目的是去除铣磨损伤层,加工精度可达1μm,表面粗糙度Ra0.63~0.01μm。研磨基本上是机械的,使用的磨料相对粗糙,也就是更大。目前,研磨设备主要包括单轴机、环抛机、机械臂抛光机和小工具数控抛光机。
抛光的目的是提高工件的表面精度和光滑表面或镜面光泽度。通常,抛光盘和抛光盘与抛光垫和抛光液一起用作抛光工具,以实现所需的表面形状精度和超光滑表面,其加工精度和表面粗糙度远远超过磨削。目前,抛光设备主要包括单轴机、环抛机、机械臂抛光机、水射流抛光、小工具数控抛光机(小磨头)、磁流变抛光机。其中,机械臂抛光、水射流抛光、小工具数控抛光(小磨头)、磁流变抛光可加工非球面、自由曲面,磁流变抛光机可实现高精度纳米级加工。
在超精密加工中,研磨是抛光前的基本加工。通常,当我们加工工件时,需要先经过研磨步骤,然后再进行下一个抛光步骤。至于实际加工,抛光分为粗抛光和超精密抛光。
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