浅谈铝合金光学抛光的原理

众所周知，铝合金表面抛光主要是机械抛光和光学抛光，光学抛光是应用比较广泛的一种，但其原理至今还不尽相同，下面我们一起来看看。

光学抛光是通过加入无烟二酸抛光剂等抛光液，在工件微观不平整的表面形成一层薄膜，溶解速度不同，达到抛光的目的。使抛光在此过程中，铝合金的溶解速度小，要求成膜速度大于溶解速度，这个目标是通过增加抛光溶液和溶液中的氧化剂或其他成膜添加剂的粘度来实现的。关于光学抛光的原理，目前还没有权威的解释，目前有两种现象。

一种现象是通过在抛光过程中控制扩散形成的氧化膜层或置换层来达到研磨的目的，抑制金属的溶解速度。当然，薄膜层和置换层没有生长限制，在生长的同时也会被溶解。在工件表面不平整的表面上会先形成凹膜层或替代层，同时应厚一些。凸膜层或替代层将在一个步骤后形成，同时应更薄。这是因为与凹面相比，凸面电流集中，活性更大，溶解速度更快。

另一处现象的发生导致铝合金凹凸面腐蚀速度的差异。光学抛光就是利用这种腐蚀速率的差异来完成铝合金表面的平整作用，达到表面光滑光亮的目的。与此原理相关的抛光液的浓度都比较高，比如常用的三酸抛光剂、无烟二酸抛光剂等，由于这类抛光液粘度大加之效果好。添加的物质其扩散速度非常低。

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